ボンバード蒸着源 BS-60610BDS

電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ・低欠陥・低融点材料の成膜用途に適しています。

研究開発用真空蒸着装置

研究開発に適した電子ビーム蒸着装置です。
様々なオプション機構を追加することで幅広い用途に使用可能です。

蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択できます。
電子銃とボンバード蒸着源、電子銃と抵抗加熱源の組み合わせも可能です。

ボンバード蒸着源 BS-60610BDS

電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ・低欠陥・低融点材料の成膜用途に適しています。

研究開発用真空蒸着装置

研究開発に適した電子ビーム蒸着装置です。
様々なオプション機構を追加することで幅広い用途に使用可能です。

蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択できます。
電子銃とボンバード蒸着源、電子銃と抵抗加熱源の組み合わせも可能です。