レンズ設計・製造展 I-41
従来から取り扱っております真空蒸着用材料の他、石英加工品(棒・板・管。特殊形状)・スパッタリングターゲット(円筒状・平板状)・フロン排出抑制法対応真空装置用冷凍機などをパネル展示いたします。また、蒸着材料専業メーカーとしては世界トップクラスの韓国DON社と協同し、同社各種製品の展示も併せて行います。
光学薄膜作成に用いられる真空蒸着用材料として専用に開発されており、ユーザーの装置に合わせた形状・サイズにてご提供可能です。また、近年のデジタル機器に要求される低膜欠陥を実現した製品も開発・販売しております。このほか、ユーザー様のご希望に合わせた製品の開発も承っております。
デジタルの画像分野においては素子の微細化に伴い薄膜の欠陥をできるだけ少なくすることが求められます。本材料はその要望に応えるべく、製法・形状を開発し製品化いたしました。
各種分野で用いられる溶融・合成石英製品を幅広く取り扱っております。材質(グレード)・形状・寸法・加工などについてはお問い合わせください。
本装置はフロン排出抑制法対象外の冷媒を使用した真空装置用冷凍機です。従来型の冷凍機に代替できます。本装置は部品の厳選と独自の機構により冷凍機固有の故障が発生しにくい構造となっており、年間出荷台数は中国・ヨーロッパを中心に世界で約1,000台と多くのユーザーから高い評価を得ております。
メーカーである「北京天地精儀科技有限公司」社は中国北京市に本社を置く冷凍機専門のメーカーであり、設立から20年以上の歴史を持っております。
スパッタリングターゲットには従来から広く使われている平板型ターゲットと近年増えている円筒型ターゲットがあります。円筒型は使用率が高く長持ちすることから採用する会社が増えています。円筒型にもボンディング式・溶射式・一体型などいくつかの種類があり、製品や生産設備などにより使い分けられています。材料により最大4000mm程度まで作成可能です。
光学薄膜製品の特性保証には分光特性測定が欠かせません。本装置OPM-300Tはその分光測定を自動化・高速化・連続化した装置です(韓国:PSI Photonics社製品)。
測定波長範囲:370nm~1050nm(標準)、250nm~2500nm(オプション)
入射角:0度~45度(0.1度刻み)
試料サイズ:最大300mm×300mm
従来から取り扱っております真空蒸着用材料の他、石英加工品(棒・板・管。特殊形状)・スパッタリングターゲット(円筒状・平板状)・フロン排出抑制法対応真空装置用冷凍機などをパネル展示いたします。また、蒸着材料専業メーカーとしては世界トップクラスの韓国DON社と協同し、同社各種製品の展示も併せて行います。
光学薄膜作成に用いられる真空蒸着用材料として専用に開発されており、ユーザーの装置に合わせた形状・サイズにてご提供可能です。また、近年のデジタル機器に要求される低膜欠陥を実現した製品も開発・販売しております。このほか、ユーザー様のご希望に合わせた製品の開発も承っております。
デジタルの画像分野においては素子の微細化に伴い薄膜の欠陥をできるだけ少なくすることが求められます。本材料はその要望に応えるべく、製法・形状を開発し製品化いたしました。
各種分野で用いられる溶融・合成石英製品を幅広く取り扱っております。材質(グレード)・形状・寸法・加工などについてはお問い合わせください。
本装置はフロン排出抑制法対象外の冷媒を使用した真空装置用冷凍機です。従来型の冷凍機に代替できます。本装置は部品の厳選と独自の機構により冷凍機固有の故障が発生しにくい構造となっており、年間出荷台数は中国・ヨーロッパを中心に世界で約1,000台と多くのユーザーから高い評価を得ております。
メーカーである「北京天地精儀科技有限公司」社は中国北京市に本社を置く冷凍機専門のメーカーであり、設立から20年以上の歴史を持っております。
スパッタリングターゲットには従来から広く使われている平板型ターゲットと近年増えている円筒型ターゲットがあります。円筒型は使用率が高く長持ちすることから採用する会社が増えています。円筒型にもボンディング式・溶射式・一体型などいくつかの種類があり、製品や生産設備などにより使い分けられています。材料により最大4000mm程度まで作成可能です。
光学薄膜製品の特性保証には分光特性測定が欠かせません。本装置OPM-300Tはその分光測定を自動化・高速化・連続化した装置です(韓国:PSI Photonics社製品)。
測定波長範囲:370nm~1050nm(標準)、250nm~2500nm(オプション)
入射角:0度~45度(0.1度刻み)
試料サイズ:最大300mm×300mm