193nm反射防止膜

特徴は、低損失・高透過率(T≧99% @193nm)でかつ、
高耐光性を有する膜質を実現しております。

193nmレーザー用ウィンドウ＆ミラー

用途：ArF エキシマレーザー

特徴
AR：193nmの透過率99.0%以上　θ=0°
HR：193nmの反射率96.0%以上 θ=45°

・光の損失が少ない
・高い耐光性
・高い基板面精度

UV-C パスフィルター

UV-C帯にて高い透過率を達成しております。

193nm反射防止膜

特徴は、低損失・高透過率(T≧99% @193nm)でかつ、
高耐光性を有する膜質を実現しております。

193nmレーザー用ウィンドウ＆ミラー

用途：ArF エキシマレーザー

特徴
AR：193nmの透過率99.0%以上　θ=0°
HR：193nmの反射率96.0%以上 θ=45°

・光の損失が少ない
・高い耐光性
・高い基板面精度

UV-C パスフィルター

UV-C帯にて高い透過率を達成しております。