光学薄膜フェア F-05
日本電子（株）
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ボンバード蒸着源 BS-60610BDS
電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ・低欠陥・低融点材料の成膜用途に適しています。
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ボンバード蒸着源 BS-60610BDS
電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。
低ダメージ・低欠陥・低融点材料の成膜用途に適しています。
日本電子（株）
- 住所
- 東京都昭島市武蔵野3-1-2
- ウェブサイトURL
- http://www.jeol.co.jp