193nmレーザー用ウィンドウ＆ミラー

用途：ArF エキシマレーザー

特徴
AR：193nmの透過率99.0%以上　θ=0°
HR：193nmの反射率96.0%以上 θ=45°

・光の損失が少ない
・高い耐光性
・高い基板面精度

リニアバリアブルフィルタ

一枚の基板に、線形でくさび形の連続的に変化するスペクトル特性をもつ光学フィルターです。入射位置をスライドさせることにより、透過波長を可変することができます。

UV-C パスフィルター

UV-C帯にて高い透過率を達成しております。

193nmレーザー用ウィンドウ＆ミラー

用途：ArF エキシマレーザー

特徴
AR：193nmの透過率99.0%以上　θ=0°
HR：193nmの反射率96.0%以上 θ=45°

・光の損失が少ない
・高い耐光性
・高い基板面精度

リニアバリアブルフィルタ

一枚の基板に、線形でくさび形の連続的に変化するスペクトル特性をもつ光学フィルターです。入射位置をスライドさせることにより、透過波長を可変することができます。

UV-C パスフィルター

UV-C帯にて高い透過率を達成しております。