光学薄膜フェア E-35
OTF Studioは、光学薄膜の最適化計算を高速・高精度に行うとともに、単層膜の透過率・反射率およびエリプソメータの測定値から屈折率(n)、消衰係数(k)を高精度に解析いたします。また、多層膜成膜後の設計と成膜結果のズレの原因をTooling比、屈折率・消衰係数のズレ、ランダムの膜厚ズレ、不均質の発生状況に分解して解析します。また、COMインターフェースによりユーザーの操作を追加可能です。
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