微細パターン成膜（フォトリソグラフィ技術）

メタルマスクによるパターン成膜では境界線のボヤケが生じると共に、微細パターンの対応は難しくなります。トーカイではフォトリソグラフィ技術を活用する事で最大1μm精度まで加工する事が可能です。対応最大サイズはφ6インチまで。基板厚さは25㎜まで対応する事が可能であり、プリズムに対するパターン成膜も実施しております。膜種は誘電体多層膜の他、金属膜も可能であり、ガラス基材はもちろんの事、樹脂やフィルムへの対応も行っております。

微細パターン成膜（フォトリソグラフィ技術）

メタルマスクによるパターン成膜では境界線のボヤケが生じると共に、微細パターンの対応は難しくなります。トーカイではフォトリソグラフィ技術を活用する事で最大1μm精度まで加工する事が可能です。対応最大サイズはφ6インチまで。基板厚さは25㎜まで対応する事が可能であり、プリズムに対するパターン成膜も実施しております。膜種は誘電体多層膜の他、金属膜も可能であり、ガラス基材はもちろんの事、樹脂やフィルムへの対応も行っております。