レーザーEXPO A-38

（株）協同インターナショナル

  • 出展のみどころ

    周期的なナノパターンの露光装置（Phableシリーズ）の紹介。
    パターニング済みウェハのサンプル展示。

  • Phable R (フォトニクスパターン露光装置、R＆D/少量生産向き)

    ナノパターン露光装置
    　ナノスケールの周期的なパターンの露光
    　　(DUV: 線幅・径65nm～、UV: 線幅・径125nm～)
    　R＆D, 少量生産向け

  • Phable X (フォトニクスパターン露光装置、自動機/量生用)

    ナノパターン露光装置
    　ナノスケールの周期的なパターンの露光
    　　(DUV: 線幅・径65nm～、UV: 線幅・径125nm～)
    　カセット対応、自動制御
    　量産対応機

  • Phable S (フォトニクスパターン露光装置、自動機/12"対応/量生用)

    ナノパターン露光装置
    　ナノスケールの周期的なパターンの露光
    　　(DUV: 線幅・径65nm～、UV: 線幅・径125nm～)
    　ステップ＆リピート露光
    　カセット自動処理
    　大量生産向け
    　大口径(12")ウェハ対応

（株）協同インターナショナル

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