レーザーEXPO R-16
新登場のテーブルトップ過渡吸収分光システム:HARPIA-LIGHTをご紹介。 20W/4mJ型・100fs型が登場し充実した高出力・高エネルギーフェムト秒レーザ PHAROS、高繰返し10MHz型(40W, 0.2mJ@<250fs)が新登場し高速加工・半導体最先端微細加工等に最適なOne box型 CARBIDEをご案内。3光子顕微鏡用途に最適な新製品CRONUS-3Pのデモに乞うご期待。
簡単にアクセスでき汎用性と高パフォーマンスを小型ワンボックスで実現。フェムト秒過渡吸収分光等にフェムト~ナノ秒で精密・正確な計測・データ取得・解析が可能。
●plug-and-play 接続
●励起波長レンジ:460-910nm
●励起波長:515nm, 343nm
●堅牢でメンテナンスフリー
●ディレイレンジ:7.5ns(10fs)
●時間分解能:<290fs
●レーザ繰返し周波数:3850Hz
先進的な非線形分光用に開発された産業用グレードのレーザ光源。3光子顕微鏡に欠かせないバイオロジカル的に透明なウインドウ1.3μmと1.7μmをカバー。
●深部イメージング用一体型
●多波長チューニング対応可:1250nm~1800nm
●全自動波長チューニングとGDDコントロール機能
●高安定パルスエネルギー、長時間出力安定性
●パルス繰返し:シングルショット~2MHz
●パルス幅:<50fs
1筐体に全てを組込む為、高安定性のフェムト秒レーザ。パルスオン・デマンドやBurst機能により金属・セラミックス・ガラス等の微細加工に最適。I-OPAによりフレキブルに波長可変。
●パルス幅:190fs〜20ps可変
●最⼤パルスエネルギー:2mJ
●最⼤出⼒:120W(IR), 50W(UV)
●繰返し周波数:シングルショット~10MHz
●高調波:515/343/257/206nm(自動)
5mJ高パルスエネルギー・短パルス幅・高平均出力。熱的安定シールドデザイン、パルス・オン・デマンド機能、BiBurstオプション等で高品位・高精度加工を高速実現。
●最大平均出力 20W
●最大パルスエネルギー 5mJ
●パルス幅 100fs~20ps可変
●パルス繰返し シングルショット~1MHz
●直付け高調波(515/343/257/206nm)
●CEP安定化・繰返し周波数ロックオプション
●I-OPA:産業用波長可変最小OPA
●ORPHEUS:(-F,-ONE)>2MHz, >80W
●-HE:>5mJ,190~16000nm
●-NEO(-ONE,-UP):高調波内蔵一体型
●-MIR:<100fs, 2500~15000nm
●-VIS:< 50fs@450~900nm
●-N:ノンコリニア型<30fs,530~900nm
●-PS:狭帯域ピコ秒型<3ps,20cm-1
●高繰返し型FL1:8W@60~90MHz, 1035nm
●高出力・高エネルギー型FL2:20W, 0.5μJ@40MHz,1030nm
●ショートパルス型FL2-SP:<50fs, 4W@10MHz, 1030nm
●高出力安定性:<0.5%rms
●最大パルスエネルギー:6nJ~0.5μJ
●CEP安定化オプション
●HG-FLINT内蔵オプション(FL2)
●外部信号同期オプション
高繰返しにてワットレベルの高平均出力が得られるので高速イメージングに最適。2又は3ch波長可変フェムト秒レーザ。1又は2つの可変出力と1つの固定波長出力が同期して同時に得られるので、マルチモーダル多光子イメージング、SRS, CARSに最適。
●GDD制御
2P-Dual: 680–960nm, 940– 1300nm (可変)と2.5W@1025nm(f固定), 160fs
1可変1固定波長有り
全てが高度に統合されレーザヘッドに内蔵し電磁波ノイズ放射を軽減した小型高効率キャビティ設計で機器組込みに最適。
パルスーオンーデマンド機能を搭載し長時間出力安定性に優れる。過酷な環境下での使用も24/7稼働の実績が豊富。
最大平均出力: 5 / 6W (空冷)
最大エネルギー: >100μJ
パルス幅:190fs~20ps 可変 (CB5-SP)
パルス繰返し:single shot ~1MHz
新登場のテーブルトップ過渡吸収分光システム:HARPIA-LIGHTをご紹介。 20W/4mJ型・100fs型が登場し充実した高出力・高エネルギーフェムト秒レーザ PHAROS、高繰返し10MHz型(40W, 0.2mJ@<250fs)が新登場し高速加工・半導体最先端微細加工等に最適なOne box型 CARBIDEをご案内。3光子顕微鏡用途に最適な新製品CRONUS-3Pのデモに乞うご期待。
簡単にアクセスでき汎用性と高パフォーマンスを小型ワンボックスで実現。フェムト秒過渡吸収分光等にフェムト~ナノ秒で精密・正確な計測・データ取得・解析が可能。
●plug-and-play 接続
●励起波長レンジ:460-910nm
●励起波長:515nm, 343nm
●堅牢でメンテナンスフリー
●ディレイレンジ:7.5ns(10fs)
●時間分解能:<290fs
●レーザ繰返し周波数:3850Hz
先進的な非線形分光用に開発された産業用グレードのレーザ光源。3光子顕微鏡に欠かせないバイオロジカル的に透明なウインドウ1.3μmと1.7μmをカバー。
●深部イメージング用一体型
●多波長チューニング対応可:1250nm~1800nm
●全自動波長チューニングとGDDコントロール機能
●高安定パルスエネルギー、長時間出力安定性
●パルス繰返し:シングルショット~2MHz
●パルス幅:<50fs
1筐体に全てを組込む為、高安定性のフェムト秒レーザ。パルスオン・デマンドやBurst機能により金属・セラミックス・ガラス等の微細加工に最適。I-OPAによりフレキブルに波長可変。
●パルス幅:190fs〜20ps可変
●最⼤パルスエネルギー:2mJ
●最⼤出⼒:120W(IR), 50W(UV)
●繰返し周波数:シングルショット~10MHz
●高調波:515/343/257/206nm(自動)
5mJ高パルスエネルギー・短パルス幅・高平均出力。熱的安定シールドデザイン、パルス・オン・デマンド機能、BiBurstオプション等で高品位・高精度加工を高速実現。
●最大平均出力 20W
●最大パルスエネルギー 5mJ
●パルス幅 100fs~20ps可変
●パルス繰返し シングルショット~1MHz
●直付け高調波(515/343/257/206nm)
●CEP安定化・繰返し周波数ロックオプション
●I-OPA:産業用波長可変最小OPA
●ORPHEUS:(-F,-ONE)>2MHz, >80W
●-HE:>5mJ,190~16000nm
●-NEO(-ONE,-UP):高調波内蔵一体型
●-MIR:<100fs, 2500~15000nm
●-VIS:< 50fs@450~900nm
●-N:ノンコリニア型<30fs,530~900nm
●-PS:狭帯域ピコ秒型<3ps,20cm-1
●高繰返し型FL1:8W@60~90MHz, 1035nm
●高出力・高エネルギー型FL2:20W, 0.5μJ@40MHz,1030nm
●ショートパルス型FL2-SP:<50fs, 4W@10MHz, 1030nm
●高出力安定性:<0.5%rms
●最大パルスエネルギー:6nJ~0.5μJ
●CEP安定化オプション
●HG-FLINT内蔵オプション(FL2)
●外部信号同期オプション
高繰返しにてワットレベルの高平均出力が得られるので高速イメージングに最適。2又は3ch波長可変フェムト秒レーザ。1又は2つの可変出力と1つの固定波長出力が同期して同時に得られるので、マルチモーダル多光子イメージング、SRS, CARSに最適。
●GDD制御
2P-Dual: 680–960nm, 940– 1300nm (可変)と2.5W@1025nm(f固定), 160fs
1可変1固定波長有り
全てが高度に統合されレーザヘッドに内蔵し電磁波ノイズ放射を軽減した小型高効率キャビティ設計で機器組込みに最適。
パルスーオンーデマンド機能を搭載し長時間出力安定性に優れる。過酷な環境下での使用も24/7稼働の実績が豊富。
最大平均出力: 5 / 6W (空冷)
最大エネルギー: >100μJ
パルス幅:190fs~20ps 可変 (CB5-SP)
パルス繰返し:single shot ~1MHz

